Usado icp

2013 Oxford, Plasmalab100-ICP380, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Oxford

Número de série.: 94-515033 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: N / D

2013 Oxford, Plasmalab ICP380-PLASMALAB100, ICP Etcher + PECVD

• usado

• Fabricante: Oxford

Número de série.: 94-515033 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher + PECVD | Equipamentos: ICP Etcher + PECVD | Descrição: N / D

2011 Tainics, TE3100, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Tainics

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: Gravação de GaN normal, Gravação de GaN alta, Gravação de PSS

2011 Tainics, TE3100, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Tainics

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: Gravação de GaN normal, Gravação de GaN alta, Gravação de PSS

2009 SUNIC, TENACIER-400VE, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: SUNIC

Número de série.: SP0906 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher

2015 Gigalane, MAXIS-300Lah, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Gigalane

Número de série.: M1108-022-01 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: Wafer de até 6"

2011 Gigalane, MAXIS 300Lah, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Gigalane

Número de série.: M1108-022-01 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: Wafer de até 6"

2010 Top Eng, LX-380, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Top ENG

Número de série.: MC1005-303 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: N / D

2010 Top ENG, LX-380, ICP Etcher

• usado

• Fabricante: Top Eng

Número de série.: MC-1005-303 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: N / D

2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher

• usado

• Fabricante: Plasma-Therm
• Modelo: VERSALINE

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP-RIE Etcher | Equipamentos: ICP-RIE Etcher | Descrição: Wafer de 200 mm (máx.)

Plasma Therm Versaline ICP-RIE #2 PSS ICP 4x4

• usado

• Fabricante: Plasma-Therm

Plasmalab ICP380 & Plasmalab100 ICP Etcher 100 RIE+PECVD

• usado

• Fabricante: OXFORD