Equipamentos para semicondutores » Equipamentos de Deposição (CVD, PVD)

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Usado process

  • AMAT DPS II

    AMAT DPS II

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • 2005 Novellus C3 Speed XT

    2005 Novellus C3 Speed XT

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • 2006 Novellus C3 Speed XT

    2006 Novellus C3 Speed XT

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • 2005 Novellus C3 Speed XT

    2005 Novellus C3 Speed XT

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • 2004 Novellus C3 Speed XT

    2004 Novellus C3 Speed XT

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H

    Georgia, EUA
  • CAPACITADOR AMAT 2008

    CAPACITADOR AMAT 2008

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H

    Massachusetts, EUA
  • CAPACITADOR AMAT 2008

    CAPACITADOR AMAT 2008

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 4C/H

    Massachusetts, EUA
  • CAPACITADOR AMAT 2008

    CAPACITADOR AMAT 2008

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H

    Massachusetts, EUA
  • CAPACITADOR AMAT 2008

    CAPACITADOR AMAT 2008

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H

    Massachusetts, EUA
  • CAPACITADOR AMAT 2008

    CAPACITADOR AMAT 2008

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H

    Massachusetts, EUA
  • AMAT AXIOM

    AMAT AXIOM

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: TROCA DE ÓXIDO | Câmara: SOMENTE CÂMARA

    Los Angeles, California
  • AMAT AXIOM

    AMAT AXIOM

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: TROCA DE ÓXIDO | Câmara: SOMENTE CÂMARA

    Los Angeles, California
  • 2010 AMAT ENDRUA 2

    2010 AMAT ENDRUA 2

    • Fabricante: Amat

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: PVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
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Resumo

CVD (Deposição Química de Vapor) e PVD (Deposição Física de Vapor) são tecnologias avançadas de revestimento usadas para aplicar filmes finos ou revestimentos em vários substratos. CVD envolve reações químicas na superfície de um substrato aquecido, enquanto PVD envolve a vaporização física de um material que depois condensa no substrato. Esses processos são amplamente utilizados em indústrias como eletrônica, aeroespacial e automotiva para melhorar propriedades materiais como dureza, resistência ao desgaste e proteção contra corrosão.

PERGUNTAS FREQUENTES

O que devo considerar ao comprar uma máquina de CVD/PVD?

Considere a capacidade da máquina, a compatibilidade com os materiais de revestimento desejados e os requisitos específicos da aplicação. Verifique também o estado da máquina, idade e histórico de manutenção.

Como garantir que a máquina de CVD/PVD seja enviada com segurança para meu local?

Utilize um serviço de transporte especializado em manuseio de equipamentos industriais delicados e de alto valor. Certifique-se de que a máquina esteja devidamente embalada e segura para evitar danos durante o transporte.

Qual é o cronograma de manutenção para uma máquina de CVD/PVD?

A manutenção regular inclui limpeza da câmara, verificação e substituição de filtros, inspeção de vedações e calibração do sistema. Siga as diretrizes do fabricante para intervalos de manutenção detalhados para garantir desempenho ideal.