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2005 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA- Georgia, EUA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA2005 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA2006 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUACAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUACAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUACAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 4C/H
Massachusetts, EUACAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUACAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUAAMAT AXIOM
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: TROCA DE ÓXIDO | Câmara: SOMENTE CÂMARA
Los Angeles, CaliforniaAMAT AXIOM
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: TROCA DE ÓXIDO | Câmara: SOMENTE CÂMARA
Los Angeles, California2006 TEL ALPHA 303I
- Fabricante: Tokyo Electron - TEL
- Modelo: Alpha-303i
Tamanho do wafer: 12" | Processo: FORNO | Envio: EXW
Seul, Coreia do Sul