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Usado process in Coreia do Sul

  • 2006 TEL ALPHA 303I

    2006 TEL ALPHA 303I

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Alpha-303i

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: FORNO | Envio: EXW

    Seul, Coreia do Sul
  • 2010 AMAT CENTURA DPS

    2010 AMAT CENTURA DPS

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: Gravura | Envio: EXW

    Seul, Coreia do Sul
  • 1995 TEL ALPHA 8S

    1995 TEL ALPHA 8S

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: ALPHA 8S

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: FORNO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 2000 LAM C2 SEQUEL EXPRESS

    2000 LAM C2 SEQUEL EXPRESS

    • Fabricante: Lam Research - Novellus

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAT ENDURA 6" SYSTEM

    1996 AMAT ENDURA 6" SYSTEM

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Endura

    Tamanho do wafer: 6" | Processo: ttn * 5ch | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1994 AMAT P5000

    1994 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 6" | Processo: 3 WxL | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1993 AMAT P5000

    1993 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 6" | Processo: DxL, TEOS | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • AMAT P5000

    AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: Óxido MXP | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1999 AMAT CENTURA

    1999 AMAT CENTURA

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1998 TEL ALPHA 8S

    1998 TEL ALPHA 8S

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: ALPHA 8S

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: FORNO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 TEL ALPHA 8S

    1996 TEL ALPHA 8S

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: ALPHA 8S

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: FORNO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: ETCH&CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAMT P5000

    1996 AMAMT P5000

    • Fabricante: AMAMT

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: ETCH&CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 TEL ALPHA 8S

    1996 TEL ALPHA 8S

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: ALPHA 8S

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: FORNO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
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Resumo

CVD (Deposição Química de Vapor) e PVD (Deposição Física de Vapor) são tecnologias avançadas de revestimento usadas para aplicar filmes finos ou revestimentos em vários substratos. CVD envolve reações químicas na superfície de um substrato aquecido, enquanto PVD envolve a vaporização física de um material que depois condensa no substrato. Esses processos são amplamente utilizados em indústrias como eletrônica, aeroespacial e automotiva para melhorar propriedades materiais como dureza, resistência ao desgaste e proteção contra corrosão.

PERGUNTAS FREQUENTES

O que devo considerar ao comprar uma máquina de CVD/PVD?

Considere a capacidade da máquina, a compatibilidade com os materiais de revestimento desejados e os requisitos específicos da aplicação. Verifique também o estado da máquina, idade e histórico de manutenção.

Como garantir que a máquina de CVD/PVD seja enviada com segurança para meu local?

Utilize um serviço de transporte especializado em manuseio de equipamentos industriais delicados e de alto valor. Certifique-se de que a máquina esteja devidamente embalada e segura para evitar danos durante o transporte.

Qual é o cronograma de manutenção para uma máquina de CVD/PVD?

A manutenção regular inclui limpeza da câmara, verificação e substituição de filtros, inspeção de vedações e calibração do sistema. Siga as diretrizes do fabricante para intervalos de manutenção detalhados para garantir desempenho ideal.