Usado etc in Daejeon, Coreia do Sul

EXPEDIUS

Tamanho do wafer: 12" | Processo: DUMMY CLN | Envio: EXW

NIDEC IM 15

• Fabricante: Nidec-Shimpo

Processo: Inspeção de wafer | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

LUMONICS SUPERCLEAN

• Fabricante: LUMONICS

Tamanho do wafer: 8" | Processo: Sistema de marcação a laser | Envio: EXW`

IWATANI LNS-1

• Fabricante: IWATANI

Detalhes: Fornecedor de nitrogênio líquido | Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: Fornecedor de nitrogênio líquido IWATANI LNS-1

1992 DISCO DFG-82IF

• Fabricante: Disco
• Modelo: DFG-82IF8

Processo: Esmerilhadeira de superfície rotativa

TEL 303I

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: 303I

Tamanho do wafer: 12" | Envio: EXW

TEL FORMULA

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: Formula

Tamanho do wafer: 12" | Envio: EXW

TEL INDY PLS

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW

1998 NICOLET MAGNA 560 FT-IR

• Fabricante: Nicolet
• Modelo: MAGNA 560 FT-IR

Envio: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Fabricante: Leica

Processo: Microscópio de inspeção de wafer | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

HP 4145B

• Fabricante: HP
• Modelo: 4145B

Processo: PARÂMETRO DO SEMICONDUTOR | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Fabricante: Leica

Processo: Microscópio de inspeção de wafer | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Fabricante: Leica
• Modelo: KENSINGTON 300901

Processo: Microscópio de inspeção de wafer | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

LEICA AG KENSINGTON 300901

• Fabricante: Leica
• Modelo: KENSINGTON 300901

Processo: Microscópio de inspeção de wafer | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

KEITHLEY KEITHLEY 236

• Fabricante: Keithley
• Modelo: 236

Detalhes: Unidade de medição da fonte | Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: KEITHLEY 236 Unidade de medição da fonte