Usado Equipamentos De Suporte (Semicondutores) in Coreia do Sul

2005 AXCELIS ES3

• Fabricante: Axcelis
• Modelo: ES3

Tamanho do wafer: 12"

VERTEQ SUPERCLEAN 1600

• Fabricante: Verteq
• Modelo: SUPERCLEAN 1600

1998 ESPEC PHH-301

• Fabricante: Espec
• Modelo: PHH-301

Tamanho da saída: 1500*1210*1065 mm | Tamanho da entrada: 800*800*800 mm | Faixa de temperatura: 20~300 ℃ | Tensão: 200V/3PH/50-60HZ | Localizado: Armazém da Etechsolution M

1998 ESPEC PHH-301

• Fabricante: Espec
• Modelo: PHH-301

Tamanho da saída: 1500*1210*1065 mm | Tamanho da entrada: 800*800*800 mm | Faixa de temperatura: 20~300 ℃ | Tensão: 200V/3PH/50-60HZ | Localizado: Armazém da Etechsolution M

1992 DISCO DFG-82IF

• Fabricante: Disco
• Modelo: DFG-82IF8

Processo: Esmerilhadeira de superfície rotativa

MPD MSP-2300XPI

• Fabricante: MPD

Tamanho do wafer: 12" | Detalhes: Deposição de wafer | Remessa: EXW

OLYMPUS MX80

• Fabricante: Olympus
• Modelo: MX80

Tamanho do wafer: 8", 12" | Processo: Escopo | Envio: EXW

Nanometrics Caliper_MOSAIC

• Fabricante: Nanometrics
• Modelo: CALIPERMOSAIC

Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: Calibrador Nanometrics_MOSAIC

E-TECH SOLUTION INSPECTION SCOPE

• Fabricante: Kannegiesser-Etech

Processo: ESCOPO DA INSPEÇÃO | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

TTS DXL-800HS-CE

• Fabricante: TTS

Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

1998 NICOLET MAGNA 560 FT-IR

• Fabricante: Nicolet
• Modelo: MAGNA 560 FT-IR

Processo: Espectrômetro | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

LEICA Reichert-Jung,Kensington 300901

• Fabricante: Leica

Processo: Microscópio de inspeção de wafer | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

GYE-12000 GYE-12000

• Fabricante: GYE-12000

Tamanho do wafer: 8" | Envio: EXW

SVS MSX1000

• Fabricante: SVS

Tamanho do wafer: 8" | Envio: EXW

GENUS Stratagem300

• Fabricante: GENUS

Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: Gênero Stratagem300