Equipamentos para semicondutores » Metrologia / Inspeção (semicondutores)

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Usado Metrologia / Inspeção (Semicondutores)

1991 NIKON 3
- Fabricante: Nikon
Tamanho do wafer: 5" | Processo: ESTAÇÃO OPTI
Coreia do Sul
2010 RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Envio: EXW
Coreia do Sul
RUDOLPH WV320 MACRO
- Fabricante: Rudolph
Tamanho do wafer: 8" | Envio: EXW
Coreia do Sul
2006 KLA CI T1X0
- Fabricante: KLA-Tencor
Envio: EXW
Coreia do Sul
2010 HITACHI IS3200SE
- Fabricante: Hitachi
- Modelo: IS-3200SE
Tamanho do wafer: 12" | Envio: EXW
Coreia do Sul
1990 KLA SFS7200
- Fabricante: KLA-Tencor
- Modelo: SFS7200
Tamanho do wafer: 8" | Processo: Metrologia | Envio: EXW
Coreia do Sul
HSEB AXIOTRON 300
- Fabricante: HSEB
Envio: EXW
Coreia do Sul
JORDANVALLEY JVX6200
- Fabricante: JORDANVALLEY
Tamanho do wafer: 12"
Coreia do Sul
JEOL JWS-7500E
- Fabricante: Jeol
- Modelo: JWS-7500E
Tamanho do wafer: 8" | Processo: SISTEMA DE INSPEÇÃO DE WAFER | Envio: EXW
Coreia do Sul
2013 ATI OAK-1
- Fabricante: ATI
Envio: EXW
Coreia do Sul
NANOMETRICS CALPER-ULTRA
- Fabricante: Nanometrics
Tamanho do wafer: 12" | Envio: EXW
Coreia do Sul
RUDOLPH S3000
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000
Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW
Coreia do Sul
2011 RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado
Coreia do Sul
2010 RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado
Coreia do Sul
FEI FEM2010F
- Fabricante: FEI
- Modelo: FEM2010F
Detalhes: Feixe duplo | Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: FEI FEM2010F Feixe duplo
Coreia do Sul