Usado Metrologia / Inspeção (Semicondutores)

2001 HITACHI S4700-I

• Fabricante: Hitachi
• Modelo: S-4700

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Microscópio eletrônico de varredura | Envio: EXW

RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Envio: EXW

1996 HITACHI S-4160

• Fabricante: Hitachi
• Modelo: S-4160

Tamanho do wafer: 6",8" | Processo: FE SEM | Envio: EXW

LINDA IN5-HI

• Fabricante: LINDA

Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

RUDOLPH FE-3

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: FE-3

Tamanho do wafer: 8" | Processo: Elipsômetro de foco | Envio: EXW

2008 RAYTEX RXW-800

• Fabricante: RAYTEX

Tamanho do wafer: 8" | Processo: VARREDURA DE BORDA | Envio: EXW

2005 RUDOLPH MP200

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: MP200

RUDOLPH Meta Pulse 3

• Fabricante: Rudolph

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Medição da espessura do filme | Envio: EXW

RUDOLPH Meta Pulse 300

• Fabricante: Rudolph

Tamanho do wafer: 12" | Processo: MEDIÇÃO DA ESPESSURA DO METAL | Envio: EXW

KLA_TENCOR PROMETRIX FT750

• Fabricante: KLA_TENCOR

Processo: MEDIÇÃO DA ESPESSURA DO FILME | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

2013 HITACHI RS6000

• Fabricante: Hitachi
• Modelo: RS-6000

Envio: EXW

1991 NIKON 3

• Fabricante: Nikon

Tamanho do wafer: 5" | Processo: ESTAÇÃO OPTI

2010 RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Envio: EXW

RUDOLPH WV320 MACRO

• Fabricante: Rudolph

Tamanho do wafer: 8" | Envio: EXW

2006 KLA CI T1X0

• Fabricante: KLA-Tencor

Envio: EXW