Resumo
Equipamentos de limpeza de wafers removem partículas, resíduos orgânicos, metais e filmes das wafers de semicondutores durante a fabricação. Os sistemas incluem wet benches, processadores single‑wafer, secadores spin/rinse, limpadores megassônicos e plasma. Controlam produtos químicos, temperatura, agitação e a pureza da água DI para atender limites rigorosos de contaminação. Unidades usadas são comuns para expansão de fabs, P&D e terceirização.
PERGUNTAS FREQUENTES
O que devo verificar ao comprar um sistema de limpeza de wafers usado?
Verifique históricos de manutenção e uso de químicos, estado de bombas, vedações, válvulas e circuitos DI, presença de contaminação, versão do software de controle, disponibilidade de peças de reposição e retrofits realizados. Confirme compatibilidade com seus processos.
Como preparar e transportar um limpador de wafers?
Esvazie e neutralize os químicos, enxágue os circuitos DI, fixe componentes frágeis (transdutores, sensores), proteja eletrônicos, faça embalagem com isolamento contra vibração e use transporte com controle climático. Declare materiais perigosos e coordene içamento qualificado.
Qual manutenção de rotina mantém o equipamento confiável?
Monitore a qualidade da água DI, substitua filtros e linhas químicas conforme cronograma, inspecione bombas e vedações, verifique desempenho megassônico/plasma, limpe tanques e wet benches e mantenha software e registros atualizados. Siga os intervalos do fabricante.
Gyeonggi, Coreia do Sul
Gyeonggi, Coreia do Sul