Usado Rudolph Equipamentos Para Semicondutores

2004 RUDOLPH METAPULSE200

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: Metapulse 200

Tamanho do wafer: 8" | Processo: MET | Envio: EXW

2000 RUDOLPH METAPULSE200

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: Metapulse 200

Tamanho do wafer: 8" | Processo: MET | Envio: EXW

2005 Rudolph Metapulse 200

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: Metapulse 200

Tamanho do wafer: 8" | Processo: MET | Envio: EXW

2008 RUDOLPH NSK 105

• usado

• Fabricante: Rudolph

Envio: EXW

RUDOLPH S3000A

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado

RUDOLPH S3000A

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW

2001 Rudolph Metapulse 200X CU

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: Metapulse 200

Tamanho do wafer: 8" | Processo: MET | Envio: EXW

2000 RUDOLPH MP200

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: MP200

RUDOLPH S3000

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW

RUDOLPH S3000A

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Envio: EXW

RUDOLPH WV320

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: WV320

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Inspeção de Macro | Envio: EXW`

2011 RUDOLPH S3000A

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado

2011 RUDOLPH S3000A

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado

2010 RUDOLPH WS3840

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: WS3840

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Metrologia de colisões 3d | Envio: EXW`

RUDOLPH S3000S

• usado

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000S

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW