Usado semicondutores

RUDOLPH Meta Pulse 300

• Fabricante: Rudolph

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Medição da espessura do filme | Envio: EXW

2010 BRUKER JVX6200

• Fabricante: Bruker

Processo: Metrô | Envio: EXW

2006 KLA CI T1X0

• Fabricante: KLA-Tencor

Envio: EXW

RUDOLPH FE-4D

• Fabricante: Rudolph

Tamanho do wafer: 8" | Processo: Elipsômetro de foco | Envio: EXW

2008 LASERTEC BGM 300

• Fabricante: Lasertec

Tamanho do wafer: 8" | Processo: SISTEMA DE ANÁLISE E VISUALIZAÇÃO DE SUPERFÍCIE DE WAFER | Envio: EXW

2003 RUDOLPH MP200

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: MP200

Tamanho do wafer: 8

1997 LG SEMICON CLS-9002

• Fabricante: LG SEMICON

Processo: 3ª INSPEÇÃO ÓPTICA | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

2001 J.A.WOOLLAM VUV-VASE VU302(GENI)

• Fabricante: J.A.WOOLLAM

Tamanho do wafer: 8" | Processo: ELLIPSÔMETRO | Envio: EXW

KLA TENCOR P-15

• Fabricante: KLA-Tencor
• Modelo: P-15

1990 KLA SFS7200

• Fabricante: KLA-Tencor
• Modelo: SFS7200

Tamanho do wafer: 8" | Processo: Metrologia | Envio: EXW

2006 Micro-Vu Vertex 420

• Fabricante: Micro-Vu

Tamanho do wafer: N / D | Envio: EXW

HSEB AXIOTRON 300

• Fabricante: HSEB

Envio: EXW

Hitachi S4700II

• Fabricante: Hitachi
• Modelo: S 4700

Tamanho do wafer: 12" | Envio: EXW

2011 RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado

2011 RUDOLPH S3000A

• Fabricante: Rudolph
• Modelo: S3000A

Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado