Equipamentos para semicondutores » Equipamentos de Deposição (CVD, PVD)

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Usado Equipamentos De Deposição (Cvd, Pvd)

Vendedor de Confiança
CANON TOKKI CME-70
- Fabricante: Canon
Toda, Japão
Vendedor de Confiança
IWAKI CT-U25N-1
- Fabricante: Iwaki
Toda, Japão
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
2004 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
2005 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
2006 Novellus C3 Speed XT
- Fabricante: Lam Research - Novellus
Tamanho do wafer: 12" | Processo: CVD | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
AMAT DPS II
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
1996 AMAT CENTURA
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
1995 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 6" | Câmara: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, EUA
1999 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 6" | Câmara: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, EUA
2002 AMAT WSIX
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: 4C/H (TIPO MICRO-ONDAS)
Massachusetts, EUA
1996 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, EUA
1997 amat P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, EUA

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