Tamanho do wafer: 8" | Envio: EXW
Tracks de coat/develop são sistemas automatizados de processo úmido em fotolitografia que aplicam fotoresiste, realizam bakes e desenvolvem wafers expostos. Eles reúnem spin coaters, placas de aquecimento, módulos de revelação, gerenciamento de solventes e automação de cassetes em uma pista linear para espessura consistente e alto rendimento. Unidades usadas variam em tamanho de cassete, nível de automação e compatibilidade química — confirme tamanho do wafer e tipos de resiste antes da compra.
Checar capacidade do cassete, suportes de tamanho de wafer, histórico de químicos, registros de manutenção, estado de bombas e spinners, e disponibilidade de peças e manuais.
Realizar descontaminação certificada, drenar e purgar linhas químicas, fixar componentes para transporte e obter documentação de limpeza/contaminação.
Normalmente são necessários água DI, dreno de solventes, nitrogênio/ ar seco, alimentação elétrica adequada, exaustão/ventilação e às vezes água de resfriamento ou linhas de vácuo.
Troca de filtros e bombas, inspeção de vedantes e tubulações, verificação de rolamentos do spinner, calibração das placas de bake e limpeza das linhas químicas conforme o uso.
Consumíveis OEM e peças críticas podem ter prazos longos; confirme disponibilidade de vedantes, peças de bomba, spin chucks e controladores antes da compra.