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Usado plasma in Coreia do Sul

  • 1999 PLASMOS, SD2002, ELIPSÔMETRO

    1999 PLASMOS, SD2002, ELIPSÔMETRO

    • Fabricante: Plasmos

    Número de série.: 5094.06.94 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ELLIPSÔMETRO | Equipamentos: ELLIPSÔMETRO | Descrição: Wafer de 300 mm | Monitor de vídeo: 9M200A | Eletrofísica: Sistema de foco automático...

    Suwon, Coreia do Sul
  • 2008 PVA TePla, 300semiauto, Sistema

    2008 PVA TePla, 300semiauto, Sistema de Plasma

    • Fabricante: TePla
    • Modelo: 300

    Número de série.: 1581 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Sistema de Plasma | Equipamentos: Sistema de Plasma | Descrição: Wafer de 200 mm

    Suwon, Coreia do Sul
  • Fonte de alimentação de plasma

    Fonte de alimentação de plasma AI KOREA, CTC-B, AP

    • Fabricante: AI KOREA

    Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Fonte de alimentação AP Plasma | Equipamentos: Fonte de alimentação AP Plasma | Descrição: Tamanho 270x340x140mm, 220V, 2A

    Suwon, Coreia do Sul
  • 2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE

    2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher

    • Fabricante: Plasma-Therm
    • Modelo: VERSALINE

    Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP-RIE Etcher | Equipamentos: ICP-RIE Etcher | Descrição: Wafer de 200 mm (máx.)

    Suwon, Coreia do Sul
  • AI KOREA, PPHV-1K-220, Fonte de

    AI KOREA, PPHV-1K-220, Fonte de Alimentação de Plasma AP

    • Fabricante: AI KOREA

    Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Fonte de alimentação AP Plasma | Equipamentos: Fonte de alimentação AP Plasma

    Suwon, Coreia do Sul
  • 2009 EVG, EVG810LT, Sistema de

    2009 EVG, EVG810LT, Sistema de ativação por plasma de baixa temperatura

    • Fabricante: EVG

    Número de série.: S090007 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Sistema de ativação por plasma de baixa temperatura | Equipamentos: Sistema de ativação por plasma de baixa temperatura | Descrição: Wafer 50-2...

    Suwon, Coreia do Sul
  • PLASMA THERM WAFER/BATCH 740

    PLASMA THERM WAFER/BATCH 740

    • Fabricante: Plasma-Therm
    • Modelo: WAFERBATCH 740

    Tamanho do wafer: 4" | Processo: GRAVAÇÃO E GRAVAÇÃO POR PLASMA DUPLO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • PLASMA THERM WAFER/BATCH 740

    PLASMA THERM WAFER/BATCH 740

    • Fabricante: Plasma-Therm
    • Modelo: WAFERBATCH 740

    Tamanho do wafer: 4" | Processo: GRAVAÇÃO E GRAVAÇÃO POR PLASMA DUPLO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • BMR BMR PLASMA

    BMR BMR PLASMA

    • Fabricante: BMR

    Processo: HDPECVD | Câmara: 2 C/H | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • Plasma Therm Versaline ICP-RIE #2

    Plasma Therm Versaline ICP-RIE #2 PSS ICP 4x4

    • Fabricante: Plasma-Therm

    Coreia do Sul
  • 2011 AXCELIS INTEGRA

    2011 AXCELIS INTEGRA

    • Fabricante: Axcelis
    • Modelo: Integra

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: Sistema de tira seca a plasma ES | Envio: EXW`

    Seul, Coreia do Sul
  • 2012 AXCELIS INTEGRA

    2012 AXCELIS INTEGRA

    • Fabricante: Axcelis
    • Modelo: Integra

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: Sistema de tira seca a plasma ES | Envio: EXW`

    Seul, Coreia do Sul
  • PSK, ECOLITE II T, Asher/Descum

    PSK, ECOLITE II T, Asher/Descum (câmara única)

    • Fabricante: PSK

    Número de série.: PEK13007 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Asher/Descum (câmara única) | Equipamentos: Asher/Descum (câmara única)

    Suwon, Coreia do Sul
  • 2015 PSK, ECOLITE II T,

    2015 PSK, ECOLITE II T, Asher Descum (câmara dupla)

    • Fabricante: PSK

    Número de série.: PEK25701 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Asher Descum (câmara dupla) | Equipamentos: Asher/Descum | Descrição: Câmara dupla

    Suwon, Coreia do Sul
  • OXFORD 800+ RIE

    OXFORD 800+ RIE

    • Fabricante: OXFORD

    Tamanho do wafer: 5" | Processo: RIE

    Coreia do Sul