Building Filters
Gatan, GATAN 682, PECS Etcher
- Fabricante: Gatan
Número de série.: 06062701 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: PECS Etcher | Equipamentos: PECS Etcher | Descrição: 240V, 50Hz
Suwon, Coreia do Sul
2011 Tainics, TE3100, ICP Etcher
- Fabricante: Tainics
Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: Gravação de GaN normal, Gravação de GaN alta, Gravação de PSS
Suwon, Coreia do Sul
2010 Top Eng, LX-380, ICP Etcher
- Fabricante: Top ENG
Número de série.: MC1005-303 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: N / D
Suwon, Coreia do Sul
2015 Gigalane, MAXIS-300Lah, ICP Etcher
- Fabricante: Gigalane
Número de série.: M1108-022-01 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: Wafer de até 6"
Suwon, Coreia do Sul
2010 Top ENG, LX-380, ICP Etcher
- Fabricante: Top Eng
Número de série.: MC-1005-303 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: N / D
Suwon, Coreia do Sul
2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher
- Fabricante: Plasma-Therm
- Modelo: VERSALINE
Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP-RIE Etcher | Equipamentos: ICP-RIE Etcher | Descrição: Wafer de 200 mm (máx.)
Suwon, Coreia do Sul
Sistema sem limites Genius1125, XeF2 ETCHER
- Fabricante: Boundless system
Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: XeF2 ETCHER | Equipamentos: XeF2 ETCHER | Descrição: N / D
Suwon, Coreia do Sul
Sistema Boundless, Genius1125, XeF2 ETCHER
- Fabricante: Boundless system
Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: XeF2 ETCHER | Equipamentos: XeF2 ETCHER | Descrição: N / D
Suwon, Coreia do Sul
2013 Oxford, Plasmalab100-ICP380, ICP Etcher
- Fabricante: Oxford
Número de série.: 94-515033 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher | Equipamentos: ICP Etcher | Descrição: N / D
Suwon, Coreia do Sul
2013 Oxford, Plasmalab ICP380-PLASMALAB100, ICP Etcher + PECVD
- Fabricante: Oxford
Número de série.: 94-515033 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP Etcher + PECVD | Equipamentos: ICP Etcher + PECVD | Descrição: N / D
Suwon, Coreia do Sul
DAESUNG, ET214, SEED ETCHER (ETCH STATION)
- Fabricante: DAESUNG
Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: GRAVADOR DE SEMENTES (ESTAÇÃO DE GRAVAÇÃO) | Equipamentos: GRAVADOR DE SEMENTES (ESTAÇÃO DE GRAVAÇÃO) | Descrição: Wafer de 200 mm
Suwon, Coreia do Sul
Plasmalab ICP380 & Plasmalab100 ICP Etcher 100 RIE+PECVD
- Fabricante: OXFORD
Coreia do Sul
TEL, TE-8500P, ETC.
- Fabricante: Tokyo Electron - TEL
Número de série.: K85025 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ETCHER | Equipamentos: ETCHER | Descrição: Wafer de 6 polegadas
Suwon, Coreia do Sul
TEL, TE-8500P, ETC.
- Fabricante: Tokyo Electron - TEL
Número de série.: K85023 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ETCHER | Equipamentos: ETCHER | Descrição: Wafer de 6 polegadas
Suwon, Coreia do Sul
2010 AMAT CENTRIS DPS MESA
- Fabricante: Amat
- Modelo: CENTRIS DPS MESA
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ETCHER | Envio: EXW`
Seul, Coreia do Sul