Equipamentos para semicondutores » Equipamentos de Deposição (CVD, PVD)

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Usado sputter

  • 1997 amat P5000

    1997 amat P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Câmara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch

    Massachusetts, EUA
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Câmara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch

    Massachusetts, EUA
  • AMAT P5000 SPUTTER

    AMAT P5000 SPUTTER

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: SPUTTER | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • VARIAN MB2-830

    VARIAN MB2-830

    • Fabricante: Varian
    • Modelo: MB2-830

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: SPUTTER | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • VARIAN VARIAN M2I

    VARIAN VARIAN M2I

    • Fabricante: Varian
    • Modelo: M2I

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: SPUTTER | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • Varian M2I

    Varian M2I

    • Fabricante: Varian
    • Modelo: M2I

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: Sputter | Câmara: 3C/H | Envio: EXW`

    Coreia do Sul
  • 1998 AMAT P5000 CVD

    1998 AMAT P5000 CVD

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: Delta Teos 3 canais, SPUTTER 1 canal | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 2000 AMAT P5000 SACVD

    2000 AMAT P5000 SACVD

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 2000 AMAT P5000 CVD

    2000 AMAT P5000 CVD

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: Delta TEOS 3ch + Sputter 1Ch | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 2000 AMAT P 5000

    2000 AMAT P 5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8 polegadas

    Gyeonggi, Coreia do Sul

Resumo

CVD (Deposição Química de Vapor) e PVD (Deposição Física de Vapor) são tecnologias avançadas de revestimento usadas para aplicar filmes finos ou revestimentos em vários substratos. CVD envolve reações químicas na superfície de um substrato aquecido, enquanto PVD envolve a vaporização física de um material que depois condensa no substrato. Esses processos são amplamente utilizados em indústrias como eletrônica, aeroespacial e automotiva para melhorar propriedades materiais como dureza, resistência ao desgaste e proteção contra corrosão.

PERGUNTAS FREQUENTES

O que devo considerar ao comprar uma máquina de CVD/PVD?

Considere a capacidade da máquina, a compatibilidade com os materiais de revestimento desejados e os requisitos específicos da aplicação. Verifique também o estado da máquina, idade e histórico de manutenção.

Como garantir que a máquina de CVD/PVD seja enviada com segurança para meu local?

Utilize um serviço de transporte especializado em manuseio de equipamentos industriais delicados e de alto valor. Certifique-se de que a máquina esteja devidamente embalada e segura para evitar danos durante o transporte.

Qual é o cronograma de manutenção para uma máquina de CVD/PVD?

A manutenção regular inclui limpeza da câmara, verificação e substituição de filtros, inspeção de vedações e calibração do sistema. Siga as diretrizes do fabricante para intervalos de manutenção detalhados para garantir desempenho ideal.