Equipamentos para semicondutores » Equipamentos de Deposição (CVD, PVD)

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Usado equipamentos de processamento

  • 1996 TEL ALPHA 8S

    1996 TEL ALPHA 8S

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: ALPHA 8S

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: FORNO | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: ETCH&CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAMT P5000

    1996 AMAMT P5000

    • Fabricante: AMAMT

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: ETCH&CVD | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1993 AMAT P5000

    1993 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: 2 Teos DLH 2 MARK II | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • AMAT P5000

    AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: 2 SiN | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1993 AMAT P5000

    1993 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 6" | Processo: 2 TEOS DLH | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1997 AMAT P5000

    1997 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: 2 TEOS DLH | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1990 AMAT P5000

    1990 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 6" | Processo: 2 MARK II | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 1996 AMAT P5000

    1996 AMAT P5000

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: P5000

    Tamanho do wafer: 6" | Processo: 3 Teos DLH, 1 MARK II | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 2010 AMAT CENTURA DPS

    2010 AMAT CENTURA DPS

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: Gravura | Envio: EXW

    Coreia do Sul
  • 2006 AMAT ENDURA

    2006 AMAT ENDURA

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Endura

    Tamanho do wafer: 8" | Processo: PVD | Envio: EXW

    Gyeonggi, Coreia do Sul
  • 1996 AMAT CENTURA 5200

    1996 AMAT CENTURA 5200

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Centura

    Tamanho do wafer: 8 polegadas

    Gyeonggi, Coreia do Sul
  • AMAT PRODUCER

    AMAT PRODUCER

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Producer

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: UV_BAKE | Envio: EXW`

    Seul, Coreia do Sul
  • AMAT ENDURA2

    AMAT ENDURA2

    • Fabricante: Amat
    • Modelo: Endura

    Tamanho do wafer: 12" | Processo: Âmbar Ti | Envio: EXW

    Seul, Coreia do Sul
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Resumo

CVD (Deposição Química de Vapor) e PVD (Deposição Física de Vapor) são tecnologias avançadas de revestimento usadas para aplicar filmes finos ou revestimentos em vários substratos. CVD envolve reações químicas na superfície de um substrato aquecido, enquanto PVD envolve a vaporização física de um material que depois condensa no substrato. Esses processos são amplamente utilizados em indústrias como eletrônica, aeroespacial e automotiva para melhorar propriedades materiais como dureza, resistência ao desgaste e proteção contra corrosão.

PERGUNTAS FREQUENTES

O que devo considerar ao comprar uma máquina de CVD/PVD?

Considere a capacidade da máquina, a compatibilidade com os materiais de revestimento desejados e os requisitos específicos da aplicação. Verifique também o estado da máquina, idade e histórico de manutenção.

Como garantir que a máquina de CVD/PVD seja enviada com segurança para meu local?

Utilize um serviço de transporte especializado em manuseio de equipamentos industriais delicados e de alto valor. Certifique-se de que a máquina esteja devidamente embalada e segura para evitar danos durante o transporte.

Qual é o cronograma de manutenção para uma máquina de CVD/PVD?

A manutenção regular inclui limpeza da câmara, verificação e substituição de filtros, inspeção de vedações e calibração do sistema. Siga as diretrizes do fabricante para intervalos de manutenção detalhados para garantir desempenho ideal.