Usado plasma in Coreia do Sul

1999 PLASMOS, SD2002, ELIPSÔMETRO

• Fabricante: Plasmos

Número de série.: 5094.06.94 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ELLIPSÔMETRO | Equipamentos: ELLIPSÔMETRO | Descrição: Wafer de 300 mm | Monitor de vídeo: 9M200A | Eletrofísica: Sistema de foco automático...

Lam Research, Rainbow4420, Limpador de Plasma

• Fabricante: Lam Research - Novellus
• Modelo: RAINBOW 4420

Número de série.: 1012001 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Limpador de plasma | Equipamentos: Limpador de plasma | Descrição: N / D

2009 Diener Electronic, FEMTO, Sistema de plasma

• Fabricante: Diener Electronic

Número de série.: 80452 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Sistema de Plasma | Equipamentos: Sistema de Plasma | Descrição: Volume da câmara 2~3 litros

2008 JESAGI, JSPCS-750, limpador de plasma

• Fabricante: JESAGI (

Número de série.: Y0809-26-HSE-01 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Limpador de plasma | Equipamentos: Limpador de plasma | Descrição: Dimensão 600x625x500mm, 220V, 50/60Hz, 5kVA

2009 JESAGI, JSPES-W21, Limpador de plasma

• Fabricante: JESAGI

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Limpador de plasma | Equipamentos: Limpador de plasma | Descrição: 1 Tipo de câmara, 20[kVA] máx., 220v, 60Hz

2008 PVA TePla, 300semiauto, Sistema de Plasma

• Fabricante: TePla
• Modelo: 300

Número de série.: 1581 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Sistema de Plasma | Equipamentos: Sistema de Plasma | Descrição: Wafer de 200 mm

Fonte de alimentação de plasma AI KOREA, CTC-B, AP

• Fabricante: AI KOREA

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Fonte de alimentação AP Plasma | Equipamentos: Fonte de alimentação AP Plasma | Descrição: Tamanho 270x340x140mm, 220V, 2A

2012 Plasma Therm, VERSALINE, ICP-RIE Etcher

• Fabricante: Plasma-Therm
• Modelo: VERSALINE

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: ICP-RIE Etcher | Equipamentos: ICP-RIE Etcher | Descrição: Wafer de 200 mm (máx.)

AI KOREA, PPHV-1K-220, Fonte de Alimentação de Plasma AP

• Fabricante: AI KOREA

Número de série.: N / D | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Fonte de alimentação AP Plasma | Equipamentos: Fonte de alimentação AP Plasma

2009 EVG, EVG810LT, Sistema de ativação por plasma de baixa temperatura

• Fabricante: EVG

Número de série.: S090007 | Quantidade: 1 | Detalhes do equipamento: Sistema de ativação por plasma de baixa temperatura | Equipamentos: Sistema de ativação por plasma de baixa temperatura | Descrição: Wafer 50-2...

PLASMA THERM WAFER/BATCH 740

• Fabricante: Plasma-Therm
• Modelo: WAFERBATCH 740

Tamanho do wafer: 4" | Processo: GRAVAÇÃO E GRAVAÇÃO POR PLASMA DUPLO | Envio: EXW

PLASMA THERM WAFER/BATCH 740

• Fabricante: Plasma-Therm
• Modelo: WAFERBATCH 740

Tamanho do wafer: 4" | Processo: GRAVAÇÃO E GRAVAÇÃO POR PLASMA DUPLO | Envio: EXW

BMR BMR PLASMA

• Fabricante: BMR

Processo: HDPECVD | Câmara: 2 C/H | Envio: EXW

Plasma Therm Versaline ICP-RIE #2 PSS ICP 4x4

• Fabricante: Plasma-Therm

2012 AXCELIS INTEGRA

• Fabricante: Axcelis
• Modelo: Integra

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Sistema de tira seca a plasma ES | Envio: EXW`