Usado litho(foto)

2006 TEL LITHIUS

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: Lithius

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Desenvolvedor de revestimentos de alta confiabilidade e produtividade | Envio: EXW

2006 TEL LITHIUS

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: Lithius

Tamanho do wafer: 12" | Processo: PISTA | Envio: EXW

2007 DNS SS-3000-AR

• Fabricante: Dainippon Screen
• Modelo: SS-3000AR

Tamanho do wafer: 12" | Processo: Depurador de wafer (4Back) | Envio: EXW

1997 DNS SK-200W

• Fabricante: Dainippon Screen
• Modelo: SK-200W

Tamanho do wafer: 8" | Processo: 2C / 2D

LABOTECH HOT PLATE

• Fabricante: Labotech

Processo: FOTÔNICA | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

2014 CANON FPA-5510IX

• Fabricante: Canon
• Modelo: FPA

Tamanho do wafer: 8", 12" | Processo: passo a passo

PHOTO TSK-03C-02-60

• Fabricante: PHOTO

PHOTO Thermo Electron

• Fabricante: Thermo Fisher Scientific

KARLSUSS RC16

• Fabricante: KARLSUSS

Processo: CASACO DE LANTEJOULAS | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

KARLSUSS RC16

• Fabricante: KARLSUSS

Processo: CASACO DE LANTEJOULAS | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW

2000 Nikon S204B

• Fabricante: Nikon
• Modelo: S204

Tamanho do wafer: 8

2000 Nikon S204B

• Fabricante: Nikon
• Modelo: S204

Tamanho do wafer: 8

TEL LITHIUS

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: Lithius

Tamanho do wafer: 12" | Processo: SISTEMA 2C/3D DE BLOCO ÚNICO | Envio: EXW

SCREEN RF3S

• Fabricante: Screen
• Modelo: RF3S

Tamanho do wafer: 12" | Envio: EXW

PHOTO SK-200W-BVPE

• Fabricante: PHOTO

Processo: i-Line Photo Track (3C3D) | Tamanho do wafer: 8"