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Usado c.a.m.a.m.

AMAT DPS II
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Georgia, EUA
1995 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: 2C/H
Massachusetts, EUA
2000 AMAT DPS POLY
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
1996 AMAT CENTURA
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
CAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
CAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
CAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 4C/H
Massachusetts, EUA
CAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
CAPACITADOR AMAT 2008
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: ÓXIDO | Câmara: 3C/H
Massachusetts, EUA
2002 AMAT WSIX
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: 4C/H (TIPO MICRO-ONDAS)
Massachusetts, EUA
1997 amat P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, EUA
1996 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 8" | Câmara: SACVD Delta TEOS 3Ch, SPUTTER 1ch
Massachusetts, EUA
1995 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 6" | Câmara: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, EUA
1999 AMAT P5000
- Fabricante: Amat
- Modelo: P5000
Tamanho do wafer: 6" | Câmara: 1+1C/H (1CVD + 1ETCH)
Massachusetts, EUA
AMAT AXIOM
- Fabricante: Amat
- Modelo: Centura
Tamanho do wafer: 12" | Processo: TROCA DE ÓXIDO | Câmara: SOMENTE CÂMARA
Los Angeles, California

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