Building Filters
2001 HITACHI S4700-I
- Fabricante: Hitachi
- Modelo: S-4700
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Microscópio eletrônico de varredura | Envio: EXW
Coreia do Sul
RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Envio: EXW
Coreia do Sul
Coreia do Sul
Coreia do Sul
2008 RAYTEX RXW-800
- Fabricante: RAYTEX
Tamanho do wafer: 8" | Processo: VARREDURA DE BORDA | Envio: EXW
Coreia do Sul
2000 RUDOLPH MP200
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: MP200
Coreia do Sul
1998 RODOLPH Meta Pulse 200
- Fabricante: RODOLPH
Tamanho do wafer: 8 | 3 tamanho do wafer: 8" | Envio: EXW
Coreia do Sul
2003 RUDOLPH Meta Pulse 300
- Fabricante: Rudolph
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Medição da espessura do filme
Coreia do Sul
KLA_TENCOR PROMETRIX FT750
- Fabricante: KLA_TENCOR
Processo: MEDIÇÃO DA ESPESSURA DO FILME | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW
Coreia do Sul
RUDOLPH Meta Pulse 200
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: Metapulse 200
Tamanho do wafer: 8" | Processo: MEDIÇÃO DA ESPESSURA DO FILME | Envio: EXW
Coreia do Sul
2010 Kobelco SBW-330
- Fabricante: Kobelco
- Modelo: SBW-330
Detalhes: Teste e metrologia de wafer | Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: SBW-330 Teste e metrologia de wafer
Coreia do Sul
2011 Jordan valley semiconductors JVX6200I
- Fabricante: Valley
- Modelo: JVX6200I
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Metrologia de raios X (refletividade de raios X) | Envio: EXW
Coreia do Sul
1997 LG SEMICON CLS-9002
- Fabricante: LG SEMICON
Processo: 3ª INSPEÇÃO ÓPTICA | Tamanho do wafer: * | Envio: EXW
Coreia do Sul
JEOL JWS-7515
- Fabricante: Jeol
- Modelo: JWS-7515
Detalhes: Inseção de wafer | Remessa: A embalagem e o envio são de responsabilidade do comprador | Comentários: Inspeção de wafer JEOL JWS-7515
Coreia do Sul
2010 RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 12 | Envio: EXW | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado
Coreia do Sul