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Coreia do Sul
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2001 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC
- Fabricante: Nanometrics
- Modelo: CALIPERMOSAIC
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Sobreposição | Envio: EXW`
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2010 NANOMETRICS CALIPER_MOSAIC
- Fabricante: Nanometrics
- Modelo: CALIPERMOSAIC
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Sobreposição | Envio: EXW`
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2010 RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Envio: EXW
Coreia do Sul
2011 Jordan valley semiconductors JVX6200I
- Fabricante: Valley
- Modelo: JVX6200I
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Metrologia de raios X (refletividade de raios X) | Envio: EXW
Coreia do Sul
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RUDOLPH Meta Pulse
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: Metapulse
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Medição da espessura do filme | Envio: EXW
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2012 RUDOLPH S3000A
- Fabricante: Rudolph
- Modelo: S3000A
Tamanho do wafer: 8" | Processo: Elipsometria a laser de feixe focalizado | Câmara: EXW
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KLA_TENCOR P-12
- Fabricante: KLA_TENCOR
Tamanho do wafer: 6",8" | Processo: PERFILADOR DE DISCO | Envio: EXW
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RUDOLPH Meta Pulse 300
- Fabricante: Rudolph
Tamanho do wafer: 12" | Processo: Medição da espessura do filme | Envio: EXW
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2008 LASERTEC BGM 300
- Fabricante: Lasertec
Tamanho do wafer: 8" | Processo: SISTEMA DE ANÁLISE E VISUALIZAÇÃO DE SUPERFÍCIE DE WAFER | Envio: EXW
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